鋰電池納米二氧化鈦研磨分散機，納米二氧化鈦研磨分散機，高剪切研磨分散機，二氧化鈦高速研磨分散機，納米二氧化鈦德國研磨分散機，納米二氧化鈦SGN研磨分散機，144000轉納米二氧化鈦研磨分散機
SGN鋰電池納米二氧化鈦研磨分散機能夠實現自動控制，且操作簡單方便，機器運行很穩定。機器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到*的清洗。
銳鈦礦納米二氧化鈦比表面積大，在光催化，太陽能電池，環境凈化，催化劑載體，鋰電池以及氣體傳感器等方面得到廣泛的應用。
納米二氧化鈦具有良好的快速充放電性能和較高的容量。經循環伏安研究表明，鋰離子在納米二氧化鈦中同時存在兩種動力學過程，即擴散控制的鋰離子嵌入-脫出國產和贗電容性的動力學過程，更好地釋放鋰嵌入和脫嵌過程中的應力，提高循環壽命，這也是與納米二氧化鈦的特殊結構相關的。由于納米二氧化鈦）具有很好的化學穩定性和熱穩定性，因此具有更廣泛的應用范圍。
納米二氧化鈦是一種優秀的鋰嵌入載體，插鋰電位在1.5-1.6V，形成Li0.91TiO2-B，具有優異的可逆循環容量。有意思的是，它的比容量要優于同種相的直徑跟納米線直徑相仿的納米粒子。
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主要技術指標：
項目 | 指標 |
型號 | DC-TiO2-003 |
納米二氧化鈦外觀 | 白色粉末 |
PH 值 | 6-8 |
水份%（105，2hr干燥失重） | ≤1.0 |
平均原級粒徑，nm | 20 |
含量，% | ≥99.9 |
比表面積 m2/g | 50-200 |
表面處理劑 | 鋰電池活化劑處理 |
應用特點：
（1）可以有效的參雜到鈷酸鋰，錳酸鋰，磷酸鐵鋰，三元材料里面，添加量一般在0.2-0.4%。
（2）由于所使用的染料敏化劑可以在很低的光能量下達到飽和。
（3）光的利用效率高，對光線的入射角度不敏感。
（4）對光陰影不敏感。
（5）可在很寬溫度范圍內正常工作。
（6）具有很高的光轉化率
納米二氧化鈦電池的優點在于它廉價的成本和簡單的工藝及穩定的性能。其光電效率穩定在10％以上，制作成本僅為硅太陽電池的1/5～1/10．壽命能達到20年以上。
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
GMD2000為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。
研磨分散機的特點：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
設備其它參數:
設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%
